Indium fosri (INP) yarimo'tkazgichni qayta ishlash texnologiyasi

Oct 21, 2025

Xabar QOLDIRISH

Indium fosri (INP) yarimo'tkazgichni qayta ishlash texnologiyasi​

​Mundarija​

Kirish

Ilova talablari

Tizim shartlari

Ishlov berish oqimi

Xaridor ishi

​

​Ilova talablari​
ANP faxrli ishlov berish quyidagi maqsadlarga erishishi kerak:

Sirt pürüzy: post - 1 nm dan kam yoki unga teng

Umumiy qalinlikning o'zgarishi (TTV): 2 mkm dan kam yoki unga teng

Qalinlikni boshqarish: maqsadli qalinligi 150 mkm (Mijoz talablariga muvofiq)

Eskirilik tekislik: Eskirib chiqish bosqichida parlatani silliqlash platinidan foydalanib, parlataning burilishini qoplash.

​Tizim shartlari​
HSM Prodeksicion Silinding va polishing tizimi to'liq - jarayon echimini to'liq ta'minlaydi.

​Ishlov berish oqimi​

​Tekshirish tayyorlash​

Sinovni silliqlash plateni platinining konveksini to'ldirish uchun tekislik o'lchov oynasidan foydalaning (pardali qirrali effektlarini qoplash uchun ishlatiladi).

INPni belgilangan armaturaga yuklang (ASJ). Alumina slurry yordamida ikkita - bosqichli silliqlash:

​1 bosqich:Kesish shikastlanishini olib tashlang, 250-350 nm ga tatbiq etishni kamaytiradi.

​2-bosqich:Zo'rlikni yaxshilash, 200-350 nm va TTV 3 mkm dan kam yoki teng bo'lgan ttv.

​Parlatishni tayyorlash​

Lapping Putinni polishing yostig'i bilan almashtiring va HSM ixtisoslashtirilgan pourilli atagiga uzating.

Grafik interfeys orqali asosiy parametrlarni boshqaring:

Polishing platlash tezligi: 100 RPM dan kam yoki unga teng

Slurry oqimi: Real - tomonidan vaqtni boshqarish uchun vaqtli ozuqalarni boshqarish tizimi (chiqindilarni kamaytiradi)

Bosim yuklanishi: qalinligi talablariga asoslanadi.

​Maqsad:Sub {{0} ● Yuzaki shikastlanishni olib tashlang va atom silliq sirtini (taxminan 1 nm ga teng) bajaring.

​Natijalar​
HSM-LP tizimi tomonidan ishlov berilgan 2 - INP Wafers quyidagi ish faoliyatiga erishdi:

​Xaridor ishi​
Mijoz INPning 2 dyuymini (50 mm) ish bilan ishlash uchun HSM {- lp tizimidan foydalangan. Jarayon va natijalar quyidagicha:

​Ikkita - sahnani siqish:​

Lapping platenkani maqsadli egrilikka kalibrlangan (chekka burilishga qarshi turaman).

Alumina atari bilan materiallar ketma-tekis olib tashlandi, TTV 3 mkm bilan barqarorlashdi.

​Jilolash:​

Polishing skurry oqimi darajasi 50 ml / min ga, platin tezligini 80 RPMda o'rnatadi.

Sirt pürüzlülülme 350 nm dan 1 nm gacha (Dektak profilometr tomonidan tasdiqlangan).

​Yakuniy metrlar:​

Qalinligi: 150 ± 0,5 mkm

Yassi: TTV 1 mkm dan kam yoki teng

EDGE BESTITLIK: yo'q.

​Texnik tekshiruv​
Sxematik: HSM - lp tizimi tomonidan qayta ishlangandan keyin INPning sirtor morfologiyasi.

1conew1

​Izohlar:​

O'lchov uskunalari: bruker konturring oq chiroq interferometr

To'liq - Jarayon berish - 98% dan katta yoki teng yoki 80 ta mish-mish hajmidan kattaroq)

So'rov yuborish